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TOKU, H.; PESSOA, R. S.; MACIEL, H. S.; MASSI, M.; MENGUI, U. A. Influence of process parameters on the growth of pure-phase anatase and rutile TiO2 thin films deposited by low temperature reactive magnetron sputtering. Brazilian Journal of Physics, v. 408, n. 3, p. 340-343, Sept. 2010. DOI: <10.1590/S0103-97332010000300015>. Disponível em: <http://doi.org/10.1590/S0103-97332010000300015>.
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... como proposto por Toku et al. (2010).
... pode ser encontrada na literatura (TOKU et al., 2010).